壹、儀器設備 ( 有 3 台 )
一、規格型號：
（ 一 ）UV Hitachi U-4100
1. 分光器：向差補正式稜鏡－劃柵雙分光器
(a) 預分光器： Littrow Type 稜鏡分光器
(b) 主分光器：繞射格子光柵分光器（ 2 繞射光柵） Czerny-Turner Mount
2. 波長範圍： 240 to 2600 nm 。
3. 檢知器：光電倍增管（ UV/Vis ）、恆溫冷卻式 Pbs （ NIR ）， 60mm 直徑積分球硫酸鋇鍍膜。
4. 樣品室：內部尺寸 480W×470D×200H mm （ Standard type ）； 680W×470D×300H mm （ Large type ）
5. 波長最小刻劃： 0.01 nm 。
6. 光譜帶寬之選擇與顯示 UV/Nis ：固定式或自動選擇。
7. 波長精確度： NIR/Vis ： ±0.2nm ； NIR ： ±1.0nm ；附自動波長校正功能。
8. 波長掃瞄速度： 0.3 （ 0.75 ）、 3 （ 7.5 ）、 15 （ 37.5 ）、 30 （ 75 ）、 60 （ 15 0 ）、 120 （ 300 ）、 300 （ 750 ）、 600 （ 1500 ）、 1200 （ 3000 ）、 2400 （ 6000 ） nm/min 。（） 內之值為在 NIR 區。
9. 燈源改變範圍： 325 至 370 可自動選擇。
10. 測光系統：雙光束直接比率測光系統（日立公司唯一採用之 Feedback 系統）。 UV/Vis ：負電壓及自動轉換 ； Slit NIR ：自動轉換 Slit 及固定式 Slit 。
11. 測光型式：吸光度（ ABS ）、穿透率（％ T ）、反射率（％ R ）， Energy on reference side 【 E(R) 】 /sample side 【 E(S) 】。附件： 1. 玻璃樣品專用治具。 2. 液態樣品專用治具。
（ 二 ）Agilent 8453 UV-Visible Diode Array Spectrophotometer
1. 光束系統：開放式單光束源。
2. 光學系統： Photo Diode Array 。
3. 光源：雙燈源 (Tungsten and Deuterium Lamp) 。
4. 樣品室：開放式無蓋。
5. 波長範圍： 190 to 1100 nm 。
6. 狹縫波長寬度： < 1 nm 。
7. EP 測試標準： >1.6 (Toluene in hexane, ration abs. At 269 nm/266 nm 。
8. Stray 光： < 0.03% . At 340 nm 。
9. 波長準確度： < ±0.5nm ， 0.5 Second Scan （ NIST 2034 ） < ±0.2nm ， at 486.0 & 656.1 nm 。
10. 波長重覆性： < ±0.02nm ， ten consecutive scans （ NIST2034 ）。
11. 全波長掃瞄時間： 0.1 秒。
12. 基線平移： < 0.001 A 。
13. 光列穩定度： < 0.001 A/h 。
14. 光列雜訊： < 0.0002 A, Sixty 0.5 second scan at 0 A, 500 nm 。
15. 操作溫度： 0℃ - 50℃ 。
16. 操作軟體：採用 LAN 網路聯線控制光譜儀所有的參數。
17. Kinetics 操作： Bio-chemical Analysis 及 Multi-cell 控制功能。
18. 光譜儀尺寸： > 200*360*580mm( 高 * 寬 * 深 ) 。
（ 三 ）Jasco V-650
1. 光學系統： Double beam, single monochromator
2. 光源：雙光源 (Deuterium lamp ： 190~350 nm ； Halogen lamp ： 330~350 nm)
3. 光源轉換波長：使用者可選擇 330~350 nm 範圍
4. 偵測器： Photomultiplier tube
5. 波長範圍： 190~900 nm
6. 波長準確度： ±0.2 nm ( 光譜帶寬 0.5 nm ；波長 656.1 nm ；常溫 )
7. 波長重複性： ±0.05 nm
8. 光譜帶寬： 0.1, 0.2, 0.5, 1, 2, 5, 10 nm ； L2, L5, L10 nm (low stray-light mode) ； M1, M2 nm (micro-cell mode)
9. 線性範圍： 0~10000 %T ； -2~4 Abs
10. 吸光度準確性： ±0.002 Abs (0~0.5 Abs) ； ±0.003 Abs (0.5~1 Abs) ； ±0.3 %T (NIST SRM 930D)
11. 吸光度重複性： ±0.001 Abs (0~0.5 Abs) ； ±0.001 Abs (0.5~1 Abs)
12. 雜散光： 1 % (198 nm KCl 12 g/L aqueous solution) 0.005 % (220 nm NaI 10 g/L aqueous solution ； 340 nm & 370 nm
NaNO2 50 g/L aqueous solution)
13. 基線穩定度： ±0.0003 Abs/hr
14. 基線平整度： ±0.0003 Abs
15. 雜訊值： 0.00003 Abs (0 Abs ；波長： 500 nm ；測量時間： 60 sec ；譜寬： 2 nm)
16. 光譜儀尺寸： 460L×602W×270H mm
貳、預約辦法：
預約請洽儀器管理者：高郁婷同學 02-33665070 ；yyting0205@gmail.com
儀器放置地點：台灣大學高分子科學與工程學研究所地下室 102 室
若您需要預約使用儀器，請以電話或 E-mail 預約，謝謝。
參、操作辦法：
（ 1 ） 若實驗室未有操作合格者，請派一位同學與儀器管理者學習操作流程，並取得合格操作資格。
（ 2 ） 凡操作者須經由儀器管理者認定核可，取得操作資格，得以自行上機操作。
（ 3 ） 未有操作資格者，須由各實驗室已取得合格操作者陪同操作，經上機練習 5 時段 （ 每時段約 2 小時 ） 後，與儀器管理者申請操作資格，經核可取得操作資格，得以自行上機操作。
肆、計費方式
（ 1 ） 高分子所成員： 150 元 / hr
（ 2 ） 校內其他單位： 550 元 / hr
（ 3 ） 校外委託代測： 735 元 / hr
（如需操作人員代為操作，每小時服務費另收： 210 元。）
伍、使用資格
高分子所教授所指導的學生，經訓練與檢定考試通過之後，才能夠自行操作儀器。
操作辦法：
（ 1 ）若實驗室未有操作合格者，請派ㄧ位同學與儀器管理者學習操作流程，並取得合格操作資格。
（ 2 ） 凡操作者須經由儀器管理者認定核可，取得操作資格，得以自行上機操作
（ 3 ）未有操作資格者，須由各實驗室已取得合格操作者陪同操作，經上機練習， 與儀器管理者申請操作資格，經核可取得操作資格，得以自行上機操作。